چین هدف اسپتر کردن تیتانیوم 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr برای پوشش PVD

هدف اسپتر کردن تیتانیوم 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr برای پوشش PVD

مواد: تیتانیوم
درجه: درجه 1
OD: 90-600 میلی متر
چین هدف های دیسک تیتانیوم 98x10mm، 98x12mm، 98x20mm برای دندان مصنوعی

هدف های دیسک تیتانیوم 98x10mm، 98x12mm، 98x20mm برای دندان مصنوعی

اندازه: سفارشی
نوع هدف: قابل چرخش
تراکم: سفارشی
چین 99.995 درصد طهارت تیتانیوم هدف اسپوتینگ PVD پوشش هدف لوله چرخشی

99.995 درصد طهارت تیتانیوم هدف اسپوتینگ PVD پوشش هدف لوله چرخشی

نام محصول: هدف های لوله های تیتانیوم
مواد: تیتانیوم خالص درجه 1
خلوص: 99.9٪ - 99.999٪
چین هدف اسپتر کردن فلز PVD 100x40mm تزئینات و پوشش ابزار

هدف اسپتر کردن فلز PVD 100x40mm تزئینات و پوشش ابزار

اندازه دانه: <100m
نوع: هدف کندوپاش
فنی: نورد، فورج، CNC
چین OEM PVD 5N+ 99.9995% تیتانیوم هدف های نیمه هادی خالص هدف های نازک فیلم

OEM PVD 5N+ 99.9995% تیتانیوم هدف های نیمه هادی خالص هدف های نازک فیلم

نام محصول: مواد هدفمند تیتانیوم نیمه هادی
خلوص: 5N+(99.9993%-99.9995%)
اندازه دانه: <100m
چین 99.9-99.999٪ خلوص فلمی نازک تیتانیوم اهداف 3N-5N تیتانیوم اهداف اسپتر کردن

99.9-99.999٪ خلوص فلمی نازک تیتانیوم اهداف 3N-5N تیتانیوم اهداف اسپتر کردن

نام محصول: اهداف تیتانیوم رسوب لایه نازک
مواد: تیتانیوم خالص
خلوص: 3N-5N
چین هدف های اسپتر کردن تک/متعدد خالص با سطح پولیش شده سفارشی

هدف های اسپتر کردن تک/متعدد خالص با سطح پولیش شده سفارشی

Substrate Compatibility: Customized
Purity: 99.99%
Density: Customized
چین 99.99% خالصيت هدف فلزي با ساختار بلور سطح پوليش

99.99% خالصيت هدف فلزي با ساختار بلور سطح پوليش

Surface: Polished, Anodizing
Surface Finish: Polished
Crystal Structure: Customized
چین هدف فلزی سفارشی برای پوشش های اسپوترینگ پیکربندی تک یا چندگانه Ra 0.8 Um

هدف فلزی سفارشی برای پوشش های اسپوترینگ پیکربندی تک یا چندگانه Ra 0.8 Um

Coating Method: Sputtering
Technique: Forged And CNC Machined
Target Configuration: Single Or Multiple
چین هدف اسپتر کردن آلیاژ ایندیوم با زیربناهای سفارشی که پولیش شده و آنودیزه شده اند

هدف اسپتر کردن آلیاژ ایندیوم با زیربناهای سفارشی که پولیش شده و آنودیزه شده اند

Target Bonding: Indium
Substrate Compatibility: Customized
Surface Roughness: Ra < 0.8 Um
1 2 3 4