هدف کندوپاش تیتانیوم مورد استفاده در صنعت نیمه هادی
اهداف کندوپاش تیتانیوم به طور گسترده در صنعت نیمه هادی برای رسوب لایه های نازک روی ویفرهای سیلیکونی استفاده می شود.لایه های نازک در ساخت وسایل میکروالکترونیکی مانند ترانزیستورها، دیودها و مدارهای مجتمع استفاده می شود.در اینجا چند روش خاص وجود دارد که در آناهداف کندوپاش تیتانیومدر صنعت نیمه هادی استفاده می شود:
الکترودهای دروازهاهداف کندوپاش تیتانیوم برای رسوب لایه‌های نازک تیتانیوم بر روی ویفرهای سیلیکونی برای ایجاد الکترودهای دروازه در ترانزیستورهای اثر میدانی فلز-اکسید-نیمه هادی (MOSFET) استفاده می‌شوند.از این الکترودهای گیت برای کنترل جریان الکتریکی در ماسفت ها استفاده می شود.
به هم متصل می شود: اهداف کندوپاش تیتانیوم برای رسوب لایه های نازک تیتانیوم بر روی ویفرهای سیلیکونی برای ایجاد اتصالات درونی در مدارهای مجتمع استفاده می شود.این اتصالات برای اتصال اجزای مختلف مدارهای مجتمع استفاده می شود و برای عملکرد آنها ضروری است.
موانع انتشار: اهداف کندوپاش تیتانیوم برای رسوب لایه های نازک نیترید تیتانیوم (TiN) روی ویفرهای سیلیکونی برای ایجاد موانع انتشار در مدارهای مجتمع استفاده می شود.این موانع انتشار برای جلوگیری از انتشار فلزات به سیلیکون استفاده می شود که می تواند باعث کاهش عملکرد و خرابی مدارهای مجتمع شود.
ماسک های اچ: اهداف کندوپاش تیتانیوم برای قرار دادن لایه های نازک تیتانیوم روی ویفرهای سیلیکونی برای ایجاد ماسک های اچ استفاده می شود.این ماسک‌های اچ برای محافظت از مناطق خاصی از ویفرهای سیلیکونی در طول فرآیند اچ استفاده می‌شوند که برای ایجاد الگوها و ویژگی‌های خاص در مدارهای مجتمع استفاده می‌شود.
به طور خلاصه،اهداف کندوپاش تیتانیوممواد ضروری در صنعت نیمه هادی ها هستند و برای طیف گسترده ای از کاربردها، از جمله الکترودهای دروازه، اتصالات، موانع انتشار و ماسک های اچ استفاده می شوند.